JRLテックログ

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ジャパン・リサーチ・ラボが提供する技術コンサルティング、人材育成、戦略策定、セミナー等の様々なコンテンツに関する情報を提供するブログです

20190807セミナー(アイデアの【創出】【評価・選択】【具現化】方法)

下記セミナーを開催します。

 お申込みは、HPのお問い合わせボタンよりお願いします。

 

【タイトル】

~革新的新商品、新規事業を生み出す~
イデアの【創出】【評価・選択】【具現化】方法

 

【概要】

 新商品開発などの研究開発はもちろん、企画や制度改革といったあらゆる業務において、アイデア創出は全ての基本となります。良いアイデアが創出されてこそ、目的が達成されて、期待される効果を得ることができます。しかし、現実にはアイデア出しの教育などは誰も受けておらず、アイデアと思いつきの違いすらも区別されないまま実務が行われています。良質で良いアイデアとは何か、そのようなアイデアを生み出すためにはどのようなプロセスを用いるべきなのか、誰も理解しないまま、思いつきで物事が進んでいます。また、アイデア創出だけでなく、出てきたアイデアの吟味、評価も同様です。しかし、アイデア創出、アイデア評価には様々なテクニックやノウハウが存在します。
 そこで本講座では、良質な良いアイデアの創出からアイデアの評価、選択、具現化まで様々なテクニックやノウハウを伝授するとともに、豊富な演習によって習得し、実務での活用を実現します。

  

【修得知識】

 ①アイデアの出し方、考え方
 ②アイデアの評価、選択法
 ③アイデアの具現化

  など

 

【開催日】

  2019年8月7日 10:30~16:30

【会場】

  オームビル B1 ゼミルーム(東京 竹橋駅/神保町駅

【受講料】

 29,980円(税込・テキスト付)

 

【主な内容】 

1.アイデア創出の基本(事業・技術)
 1)アイデアとは何か
 2)アイデア出しの基本
 3)アイデア展開のパターン
 4)強み伝い
 5)展開・拡張
 6)俯瞰視点と仰望視点
 7)未来予想
 8)演習
 9)アイデアの源泉
 10)アイデアの基盤
 11)ヒラメキの種
 12)無意識の可視化
 13)ポジティブ思考
 14)イノベーションとは
 15)イノベーションを生む発想と行動
 16)イノベーションで新事業を産むためには
 17)3つの変革
 18)必要な要素
 19)新規性と進歩性
 20)成功の因子
 21)アイデアの評価
 22)アイデアの整理
 23)構造化
 24)分解、結合
 25)独立性と相関性
 26)チャンク思考
 27)具体的現実化
 28)演習
 29)質と量
 30)同質化の罠

2.目的と目標
 1)目的と目標
 2)目的の構成要素
 3)目標の条件
 4)判断基準
 5)目標設定のためのSMARTルール
 6)アイデア出しにおいては

3.仮説思考
 1)目的→ゴール、そして、仮説
 2)ゴール、アイデア、仮説
 3)仮説の考え方
 4)仮説の精度と確度
 5)仮説の精度を決めるもの
 6)仮説→課題設定→計画
 7)2種類の事実

4.情報の取り扱い
 1)情報収集の考え方
 2)情報の条件
 3)情報の価値
 4)情報・結果・分析のゴール
 5)Fact v.s. 主観、予想
 6)情報源

5.アイデアを多面的に見る
 1)多面視点
 2)情報の意味と価値
 3)認知バイアスの罠

6.アイデア評価と選択のための意思決定プロセス
 1)アイデアの選択
 2)意思決定の基盤
 3)意思決定の3条件
 4)Actionへのプロセス
 5)オプションの選択
 6)意思決定の要素
 7)意思決定の項目
 8)意思決定指標
 9)二つの脅威
 10)リスクマネジメント
 11)4つのリスク+1
 12)意思決定における個人と集団
 13)集団の弊害
 14)5つの議論の場

7.注意点、ポイント
 1)あれも、これも?
 2)いいな⇒困る
 3)「新しい」の落とし穴
 4)思い付きとアイデア

8.アイデア創出の具体的方法、テクニック
 1)思考のポイント
 2)イメージ化
 3)本当のフレームワーク
 4)If then思考
 5)アイデア創出プロセス
 6)構成要素で考える
 7)演習
 8)要素分解
 9)演習
 10)リボン思考(対策創出)
 11)思考の拡張
 12)ブレーンストーミング
 13)ブレストのポイント
 14)発散・収束と思考の幅
 15)アイデア生産の5ステップ
 16)アイデア生産の実際
 17)様々なアイデア発想法
 18)抽象化と具体化
 19)情報・思考の階層
 20)概算力
 21)SCAMPER法
 22)創造、拡張
 23)ランキング
 24)Fast Idea Generator
 25)フェニックスのチェックリスト
 26)ロジック、要素と逆走思考
 27)逆走思考
 28)反対視点
 29)逆説的思考

9.演習・ワーク

10.まとめと質疑

 

20190801セミナー(FT-IRの基礎と異物分析への実践応用テクニック)

下記セミナーを開催します。

 お申込みは、HPのお問い合わせボタンよりお願いします。

 

【タイトル】

FT-IRの基礎と異物分析への実践応用テクニック

 

【概要】

 赤外分光法は研究・開発だけでなく、工場でのインライン評価などにも幅広く使用されています。
近年になって、ATR法を初めとした様々な測定法の開発や装置の改良によって、従来困難であったような試料も容易に測定が可能となり、基本的な測定手法としてその地位を確立しています。

 しかし測定が容易になったためか、とりあえず使う状況が生まれて実際のサンプルに直面した際、どう測定・解析を行うかが分からないことが増えてきました。残念ながら文献・教科書等では原理を解説するにとどまり、現場活用に軸足を置いたものは多くありません。

 本講座は、赤外分光法の原理だけではなく、よりアプリケーション寄りの内容、実務での赤外分光法活用を中心としています。
実際の分析操作やスペクトルの解釈、実際の分析において対象とすることの多い異物や混合物、様々な試料や目的への対応の方法、事例などについて、実務使用における測定技術や応用技術、コツ・ノウハウを解説します。

   

【修得知識】

・ FT-IRの基礎知識
・ 各種測定方法
・ スペクトル解析の考え方
・ スペクトルサーチのコツ
・ 異物分析テクニック

  など

 

【主な対象】 

主に研究、開発、技術部門の方で
・FT-IRの基礎から応用までを学びたい方
・異物分析のテクニックを知りたい方
・実践的知識とテクニックを修得したい方

など

 

【開催日】

  2019年8月1日 10:00~16:30

【会場】

  日本能率協会・研修室(大阪)

【受講料】

 53000円 (税抜き)

 

【主な内容】 

  項目 内容
1日
10:00~16:30

1.赤外分光法の基本原理と特徴

•分光分析における吸収の定義

•赤外分光の波長領域

•振動モード

•気体と液体・固体

•赤外分光法の長所・短所

•赤外分光法による評価

•主な検出器

•検出器の感度特性

2.代表的な測定法

•透過法

•全反射法(ATR

•反射法

•拡散反射法

•主な測定法のまとめ

•顕微赤外

3.赤外スペクトル

•赤外スペクトルの概要

•主な振動モード

•主な吸収帯

•赤外分光の構造敏感性

•指紋領域の利用

•カルボニル基の判別

•スペクトルサーチ

•スペクトルデータベース

•代表的検索アルゴリズム

•検索アルゴリズムの限界

•ヒットスコアの罠

•検索結果の間違い例

•スペクトルサーチのコツ

•差スペクトル

•混合解析

•オープンライブラリ

•系統分析

•スペクトルパターン

•帰属の考え方

•ラマン分光法との対比

4.定量分析

•検量線法

•検量線法が適用困難なケース

•ピーク強度比法

•誤差要因

5.大気成分補正

•窒素パージ法

•差分法

6.測定条件

(測定条件)

7.スペクトル処理

•ベースライン補正

•スムージング・補間

•ピーク高さと面積

•自動処理の注意点

8.混合物の解析

•混合物のスペクトル

•ピーク分離

•差スペクトル

ATR法における差スペクトル

•他手法との組み合わせ

9.異物・微小部

•顕微透過法

•マイクロサンプリングの検討

•顕微ATR

10.汚染・付着物

•差スペクトル

ATR転写法

11.黒色試料

(黒色試料)

12.高次構造

•結晶解析

•融解

13.FT-IRにおける注意点

(FT-IRにおける注意点)

14.事例

•フィルム上汚染

ポリイミドの表面処理層の深さ方向分析

•精密斜め切削法

•異物分析

15.実例

•シミ、変色の分析

•埋もれた異物のサンプリング

•顕微赤外を用いたPPフィルム中異物の分析

•付着物の分析(顕微IR、μ-MS)

•塗膜ハジキの分析

•PET/エポキシのIRスペクトル

LCDTFT基板上の欠陥分析

•マイクロ抽出法による分離分析

•薬液中の浮遊物の分析

16.その他のコツ・ポイント

(その他のコツ・ポイント)

17.まとめ

(まとめ)

 

ドラッカーの代表的な8大戦略

 戦略には様々な種類があることは皆さんご存知かと思います。有名なところでは、一時もてはやされた「ブルーオーシャン戦略」といったものがあります。また、戦略についての研究者も数多くおり、有名な例ではランチェスタードラッカーなどが挙げられます。戦略とは、何をどのようにするかという基盤となる考え方、基準となるものです。すなわち、戦略によって今後の進む方向が決まるのですから、大変重要なものであるということは容易に理解できます。

 そこで、今回はドラッカーの提唱する8大戦略について書いてみたいと思います。

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コスト管理の原則(如何にしてコストをコントロールするか)

 事業活動をしていく中ではいくつもの管理因子がありますが、その中でも全てに関わり、上位の重要要素と言えるのがコストです。現代のように市場の要求がシビアになって、かつ、競争も激しい中では如何にしてコストを低減するかは最重要経営課題の一つであると言えます。しかし、現場の声はすでに絞ったぞうきんを絞っても何も出てこないという悲鳴ばかりです。確かに、すでに様々なコスト低減努力がなされているのは事実です。とはいうものの、現実に目をやるとその雑巾の絞り方は正しいのか、本当に絞れているのか、絞るべきところを間違っていないかと感じられることも少なくありません。

 そこで、今回はコストというものについて詳しく見ていきたいと思います。

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20190729セミナー(技術者のための時間管理・計画策定)

下記セミナーを開催します。

 お申込みは、HPのお問い合わせボタンよりお願いします。

 

【タイトル】

技術者のための時間管理・計画策定

 

【概要】

技術者のみなさんにおかれましては、業務の難易度があがり、量も増えていく中、いわゆる「働き方改革」を求められ、時間の使い方に苦慮している方も多いのではないでしょうか?
一般的に言われているタイムマネジメント、業務効率化は、長時間の拘束を要する自分の業務には適用できず、困っているという相談を受けることも多いです。

これからの働き方は、無駄をなくし、密度を濃くすることで時間効率を高めていくほか方法はないのですが、日常業務を見ると実験に無駄な回り道が多い、結論が出ない無駄な会議が多すぎる・・・など時間の効率化という観点が欠けていると言わざるをえません。

セミナーでは、特に技術者の方が無駄をなくし、効率を上げることで時間を生み出すための時間管理の方法を詳細に事例を交えながら解説します。
若手の方はもちろん、ご自身の仕事の仕方を見直したい方や、働き方改革のご担当者の方のご参加もおすすめです。

  

【修得知識】

・ 時間密度を上げる方法 
・ 無駄を見つけて解消する方法
・ 時間を生み出す方法  
・ 効率的な時間管理法
・ 業務の効率化

  など

 

【主な対象】 

主に研究、開発、技術部門の方で
 ・無駄だとわかっていても効率化できていない方
 ・効率的な計画が立てられないと悩んでいる方
 ・時間管理の方法がわからない方
 ・業務改善や働き方改革のご担当者

など

 

【開催日】

  2019年7月29日 10:00~16:30

【会場】

  日本能率協会・研修室(大阪)

【受講料】

 50000円 (税抜き)

 

【主な内容】 

  項目 内容
1日
10:00~16:30

1  時間管理とは

・業務における「時間」とは

・時間管理要素

2  時間管理の基本とポイント

・優先順位

インパクトファクター

・イシュードリブン

ボトルネックシーク

・タスクの抽出、分解

・リソースマネジメント

・時間の生み出し方

3  目的と目標

・時間管理における目的、目標の意義

・判断基準

・目標設定のためのSMARTルール

4  仮説思考による研究開発と問題解決

・仮説が必要な理由

・仮説の精度と確度

・仮説→課題設定→計画

・2種類の事実

5  シナリオを考える

・Howは行動の最後

・何が必要で、何に使うのか

・よくある破綻のパターン

6  計画の考え方

・タスクから計画へ

・計画設定のためのSMARTルール

・シナリオメイク

・タスクの分別と割付

・イレギュラー対応

・マージンタイム

7  知っておくと役立つポイント、コツ

・時間価値を上げる

・細切れ時間

・作業と思考

・集中型タスク

・計画の緻密さ

8  時間管理手法

GTD 計画実行の3R

・実行フェーズノチェック

・ステージゲート

9  時間管理のための思考法

・目的志向、アウトプット思考

・思考のポイント

・ロジックの条件

・目利き力

10  コミュニケーションと情報発信

・時間管理とコミュニケーション

・報告のルール

11  部下の時間管理

・時間がない?

・指示の出し方、指導の補法

12  事例

(1) 実験を計画する

(2) 会議を実施する

13  まとめ、質疑応答

(まとめ、質疑応答)

20190725セミナー(XPS(ESCA)の基礎と実践応用テクニック)

下記セミナーを開催します。

 お申込みは、HPのお問い合わせボタンよりお願いします。

 

【タイトル】

XPS(ESCA)の基礎と実践応用テクニック

 

【概要】

 表面、界面はあらゆる技術や製品の基盤となるものであり、現在扱われる材料やプロセス、技術、商品で表面や界面が関与していないものは無いと言っても過言ではない。そのため様々な分析手法が開発されているが、その中の代表がX線光電子分光法(XPS、ESCA)である。装置の発達で測定は比較的容易になってきているとはいえ、それと共に間違った理解や手順で測定、解析を行っているケースが増えている。
 本講では、表面、界面の基礎から、XPSの原理基礎はもちろん、測定、解析の手順、技術的テクニック、コツやノウハウまで応用事例を交えて解説する。

 

【修得知識】

・表面分析の基礎
・表面分析の考え方と活用法
XPSの手法基礎
XPSの測定のコツ、ポイント
XPSの解析のコツ、ポイント

など

 

【主な対象】 

・研究開発部門、分析部門、製造部門、品質保証部門など技術部門全般
・若手から中堅を中心とした担当者
XPSの教育を行うリーダー、マネージャー

など

 

【開催日】

  2019年7月25日 10:30~16:30

【会場】

  北とぴあ9階

【受講料】

 48,600円 (税込)

 

【主な内容】

1.表面とは
 1.1 表面・界面の重要性
 1.2 表面(薄膜)とは?
 1.3 XPSで分析する表面の要素
 1.4 XPSが対象とする表面現象

2.表面分析の分類
 2.1 表面分析に用いる主な手法と選び方
 2.2 表面・微小部の代表的分析手法

3.サンプルの取り扱い
 3.1 表面分析の心構え
 3.2 サンプリング
 3.3 サンプリング(粉末)
 3.4 裏表の表示
 3.5 汚染の例

4.XPSの基本
 4.1 光電子の発生
 4.2 XPSの原理と特徴
 4.3 XPSの検出深さ
 4.4 Binding Energy の規則性
 4.5 XPS装置の基本構造
 4.6 X線
 4.7 光電子アナライザー
 4.8 ワイドスキャン(サーベイスキャン)
 4.9 ナロースキャン(代表的な元素)
4.10 バックグラウンド
4.11 エネルギー損失ピーク
4.12 シェイクアップサテライト
4.13 電荷移動サテライト
4.14 金属ピークの非対称性
4.15 スピン軌道相互作用

5.測定条件
 5.1 より正確な定量値を得るために
 5.2 積算回数
 5.3 パスエネルギーの影響
 5.4 ピークの重なり

6.チャージアップ対策
 6.1 チャージアップ
 6.2 帯電中和のメカニズム
 6.3 電子-Arイオン同軸照射型帯電中和機構
 6.4 中和銃の設定例
 6.5 チャージアップ補正条件
 6.6 化学状態による違い
 6.7 チャージアップへの工夫

7.解析の基本
 7.1 バックグラウンド処理
 7.2 XPSにおける定量
 7.3 感度係数
 7.4 相対感度係数の例
 7.5 より正確な定量値を得るために
 7.6 スペクトルのピーク分離

8.化学状態解析
 8.1 元素同定
 8.2 化学状態の同定(C1s)
 8.3 C1sケミカルシフト
 8.4 ポリマーの分析例
 8.5 金属の価数評価
 8.6 ケミカルシフトの注意点
 8.7 チタンの化学状態

9.構造解析
 9.1 異なる構造のTi2p
 9.2 バレンスバンドの活用
 9.3 例(アナターゼ&ルチル)
 9.4 異なる構造のバレンスバンド
 9.5 アナターゼ/ルチル比
 9.6 アナターゼ/ルチル混合比
 9.7 XRDとの比較
 9.8 XPSによる混合比解析と光活性
 9.9 XPSによる光活性解析
9.10 価電子帯スペクトルの活用
9.11 オージェピークの活用
9.12 オージェパラメーターの活用

10.深さ方向分析
 10.1 角度変化法
  10.1.1 XPSにおける分析深さ
  10.1.2 角度変化測定による深さ方向分析
  10.1.3 IMFPの計算
 10.2 イオンエッチング
  10.2.1 イオン銃の基本構造
  10.2.2 デプスプロファイルのワークフロー
  10.2.3 エッチレートの決定
  10.2.4 試料の回転
  10.2.5 デプスプロファイル測定の設定のポイント
  10.2.6 イオンエッチングダメージ
  10.2.7 酸化膜の深さ方向分析
  10.2.8 イオンエッチングによるクロスコンタミ
 10.3 測定ダメージとその抑制
  10.3.1 ポリマーへのArイオン照射
  10.3.2 イオンエッチングダメージ
  10.3.3 エッチング条件とダメージ
  10.3.4 クラスターイオン銃
  10.3.5 エッチング条件とスパッタレート
 10.4 HAXPES

11.イメージング
 11.1 Si基板上のCrパターンのマッピング
 11.2 Atomic% Mapping
 11.3 マッピングとパラレルイメージング
 11.4 イメージング測定の例

12.ハイブリッド分析
 12.1 ハイブリッド分析
 12.2 XPSによる光触媒の解析
 12.3 XPS&ラマン
 12.4 光活性とXPS、ラマン解析結果

13.その他補足
 13.1 界面で正体不明のピークシフト
 13.2 再汚染の影響(Si基板)
 13.3 参考文献等
 13.4 ちょっと便利なサイトやソフト

14.解析の実例
 14.1 XPSによる紫外線照射PIの解析
 14.2 表面構造変化の解析(XPS
 14.3 気相化学修飾法

15.まとめ

16.質疑