下記セミナーを開催します。
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【タイトル】
表面・界面の考え方と分析スキル習得
【概要】
表面、界面はあらゆる技術や製品の基盤となるものであり、現在扱われる材料やプロセス、技術、商品で表面や界面が関与していないものは無いと言っても過言ではありません。この重要性ゆえに、分析手法一つにしても多種多様なものが開発され、利用されています。
一方で、表面や界面はまだ未解明な部分が多く、その本当の姿を明らかにして利用することは難しいものです。
本セミナーでは、表面・界面の基礎と分析評価を中心に、その姿を明らかにして利用するためのアプローチについて、技術的テクニック・コツ・ノウハウから、考え方、アプローチ方法まで応用アプリケーションの事例を交えて具体的に解説します。
【対象】
・研究・開発
・分析部門の方
・製造・品質保証部門の方
・若手～管理職まで本テーマに ご関心のある方はどなたでもご参加いただけます
など
【開催日】
２０１９年９月２日 10:00～16:30
【会場】
日本能率協会・研修室（大阪）
【受講料】
53,000円(税抜き)
【主な内容】
| 項目 | 内容 | |
|---|---|---|
| 1日 10:00～16:30 |
1.表面に支配される現代社会 |
(表面に支配される現代社会) |
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2.表面とは |
•表面の要素 •表面における現象 |
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3.界面とは |
•界面における現象 •多層膜による界面形成 •薄膜化による界面の変化 |
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4.表面・界面を支配するもの |
•界面を形成する力 •界面形成因子と評価法 |
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5.表面分析成功のキーポイント |
•表面分析の心構え •サンプルの取り扱い •サンプリング •裏表の表示 •【汚染の例】両面テープによる汚染 |
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6.代表的表面分析手法 |
•表面分析の分類 •表面分析に用いる主な手法と選び方 •表面・微小部の代表的分析手法 •手法の選択 |
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•XPSの原理、特徴 •ワイドスキャン（サーベイスキャン） •ナロースキャン（代表的な元素 •元素同定 •化学状態の同定 •角度変化測定による深さ方向分析 •ハイブリッド分析 •チャージアップ •化学状態による違い •イオンエッチングとダメージ •エッチング条件とスパッタレート •界面で正体不明のピークシフト •便利なサイトやソフト |
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8.オージェ電子分光法（AES） |
•微小領域の元素分析手法 •AESの原理、測定例 •界面拡散の分析 •AESによる状態分析例 •チャージアップ抑制 •絶縁体上の異物 •化学状態マッピング •XPSとAESの手法の比較 |
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9.X線マイクロアナライザ（EPMA） |
•EPMAの原理 •元素分布分析 •積層膜の分析例 •観察領域 |
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10.化学構造を知る |
(化学構造を知る) |
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11.フーリエ変換赤外分光法（FT-IR） |
•赤外分光法（IR）の原理 •FT-IRの長所・短所 •測定法 •主な吸収帯 •赤外分光の構造敏感性 •指紋領域の利用 •カルボニル基の判別 •系統分析 •帰属の考え方 •全反射法（ATR法） •In-situ FT-IR |
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12.飛行時間型二次イオン質量分析法（TOF-SIMS） |
•SIMSの概念 •TOF-SIMSの概要 •TOF-MSの原理 •TOF-SIMSによる化学構造解析 |
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13.グロー放電分析（GD） |
(グロー放電分析（GD）) |
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14.形態を知る |
(形態を知) |
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15.SEM、TEM |
•表面形状と組成 •SEM-EDS組成分析 |
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16.走査型プローブ顕微鏡（SPM） |
•主な走査型プローブ顕微鏡 •形態観察におけるAFMの位置づけ •位相イメージング |
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17.界面分析 |
•樹脂／金属の界 •界面評価の重要性と課題 |
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18.解析の実例 |
•ＵＶ照射による化学構造の評価 •表面構造変化の解析(XPS) •気相化学修飾法 •化学修飾法を用いたTOFイメージング •ポリイミドの表面処理層の深さ方向分析 •PI/Cu/Si界面の解析 |
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19.仮説思考による研究開発と問題解決 |
(仮説思考による研究開発と問題解決) |
