JRLテックログ

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ジャパン・リサーチ・ラボが提供する技術コンサルティング、人材育成、戦略策定、セミナー等の様々なコンテンツに関する情報を提供するブログです

補助金・助成・支援策制度(規制のサンドボックス制度)

 国や自治体など様々な機関が色々な補助金や助成・支援策を実施しています。ただ、問題はそれらは決して積極的にPRされているとは言えないことです。もちろん、問い合わせれば教えてくれますが、問い合わせるための情報が足りないというのが現実です。

 

 そこで、そんな補助金・助成・支援策制度について、気になったものを紹介して見たいと思います。まずは、新技術実証制度、規制のサンドボックス制度と呼ばれるものです。

 

 生産性向上特別措置法(平成30年6月6日施行)に基づき、新しい技術やビジネスモデルを用いた事業活動を促進するため、「新技術等実証制度」(いわゆる「規制のサンドボックス制度」)が創設されました。本制度は、参加者や期間を限定すること等により、既存の規制の適用を受けることなく、新しい技術等の実証を行うことができる環境を整えることで、迅速な実証を可能とするとともに、実証で得られた情報・資料を活用できるようにして、規制改革を推進する制度です。

 新技術等の実証を実施しようとする者は、新技術等実証計画(以下「実証計画」といいます。)を作成し、主務大臣(事業所管大臣及び規制所管大臣)に提出します。申請を受けた主務大臣は、革新的事業活動評価委員会の意見を聴いた上で、実証計画の認定の可否を判断します。(本件の場合、事業所管大臣及び規制所管大臣は経済産業大臣です。)

 

参考URL

www.meti.go.jp

www.kantei.go.jp 

規制の「サンドボックス」制度について

https://www.kantei.go.jp/jp/singi/keizaisaisei/miraitoshikaigi/suishinkaigo2018/revolution/dai1/siryou1.pdf

 

20190704セミナー(FT-IR測定・同定の実際とアプリケーションテクニック)

下記セミナーを開催します。

 お申込みは、HPのお問い合わせボタンよりお願いします。

 

【タイトル】

FT-IR測定・同定の実際とアプリケーションテクニック

【概要】

 赤外分光法は、その特徴からも主に有機化合物の化学構造や高次構造の解析手段として研究、開発され、今日では研究・開発だけでなく工場でのインライン評価などにも幅広く一般に使用されています。近年になって、ATR法を初めとした様々な測定法の開発や装置の改良等によって、従来困難であったような試料も容易に測定が可能となり、今日においてはなくてはならない基本的な測定手法としてその地位を確立しています。
 ところが、実際のサンプルや問題に直面した場合、どのように測定・解析を行っていくかに課題をお持ちの方は依然として多いようです。残念ながら、文献・教科書等では装置や測定法の原理は詳細に解説するものの、そのアプリケーションとしての解説を十分に行っているものは少ないと言わざるをえません。
 本セミナーは、赤外分光法の詳細で専門的な原理ではなく、よりアプリケーション寄りの内容、実務での赤外分光法活用を中心としました。実際の分析操作やスペクトルの解釈、実際の分析において対象とすることの多い異物や混合物、様々な試料や目的への対応の方法、事例などについて、実務使用における測定技術や応用技術、ノウハウを解説します。

  

【修得知識】

□ 赤外分光法の各種測定法
□ アタッチメント特徴と測定技術
□ 様々な試料・目的に合わせた測定法
□ スペクトル処理・解釈の考え方
□ 混合物解析の実際の手順
□ 赤外分光法を用いた問題解決の手順

 

 

【主な対象】 

・ 研究開発部門、研究機関のご担当者、リーダーの方 
・ 企業等の分析部門、大学等の分析センター、公設試験センターの担当者、リーダー、等
・ その他、技術部門全般で本テーマにご関心のある方

など

 

【開催日】

  2019年7月4日 10:00~16:30

【会場】

  日本能率協会・研修室(大阪)

【受講料】

 50000円 (税抜き)

 

【主な内容】

  項目 内容
1日
10:00~16:30

1 赤外分光法の基本原理と特徴

(赤外分光法の基本原理と特徴)

2 代表的な測定法

•透過法

•全反射法(ATR

ATR法のバリエーション

ATR結晶(IRE)の特性

•FTIR-ATRにおける測定深さ

ATR法における注意点

ATR補正

•異常分散によるスペクトルへの影響

•様々なATRアタッチメント

•毒劇物としてのATR結晶(IRE)

•反射法

•拡散反射法

光音響分光法(PAS)

•ガスセル

•主な測定法のまとめ

•顕微赤外

•ラマン分光法との対比

3 赤外スペクトル

•赤外スペクトルの概要

•主な吸収帯

•指紋領域の利用

•カルボニル基の判別

•スペクトルサーチ

•スペクトルデータベース

•代表的検索アルゴリズム

•検索アルゴリズムの限界

•ヒットスコアの罠

•検索結果の間違い例

•スペクトルサーチのコツ

•差スペクトル

•混合解析

•オープンライブラリ

•系統分析

•帰属の考え方

4 定量分析

•検量線法

•ピーク強度比法

•内標準法

•誤差要因

5 大気成分補正

(大気成分補正)

6 測定条件

(測定条件)

7 スペクトル処理

•ベースライン補正

•ベースライン(ピーク強度)

•ピーク高さと面積

•自動処理の注意点

8 混合物の解析

(混合物の解析)

9 様々な試料

•バルク

•フィルム

•紛体

•液体

•異物・微小部

•繊維

•汚染・付着物

•黒色試料

10 高次構造

(高次構造)

11 結晶解析

(結晶解析)

12 融解

(融解)

13 配向

(配向)

14 水素結合

(水素結合)

15 バルク(全体平均)分析

(バルク(全体平均)分析)

16 表面分析

(表面分析)

17 深さ方向分析

•断面の利用

•精密斜め切削法

•傾斜面の例

•研磨法

•角度変化法

18 温度変化測定

(温度変化測定)

19 FTIRにおける注意点

ATRにおける異常分散

ATRにおける試料変形の影響

ATRにおける試料の置き方の影響

ATRにおける押し圧の影響

•KBrと試料との反応

•KBr錠剤法の粉砕粒度の影響

•表面研磨、偏光と試料傾斜による干渉縞抑制

•プレスホルダーによる干渉縞抑制

20 事 例

•フィルム上汚染

•UV表面処理による構造変化の深さ方向解析

•UV照射によるオレフィンの構造変化

•UV照射による添加剤入りPVCの構造変化

ポリイミドの表面処理層の深さ方向分析

•Pi/Cu/Si界面の解析

•時間分解測定

21 仮説思考による研究開発と問題解決

(仮説思考による研究開発と問題解決)

22 質 疑

(質疑)

 

20190702セミナー(技術者のための効果的な会議の準備と進め方)

下記セミナーを開催します。

 お申込みは、HPのお問い合わせボタンよりお願いします。

 

【タイトル】

技術者のための効果的な会議の準備と進め方

 

【概要】

会社にとって会議はなくてはならないものです。
しかし現実には、「報告だけで何も決まらない」「結論がすでにあって形式的なだけ」といった会議が星の数ほど行われています。

では、なぜ“必要なのに無駄”という乖離が生じているのでしょうか?
それは他でもなく会議の運営方法が間違っている、会議というものの理解、認識が間違っているからです。

セミナーでは、「会議の本質を理解する」を基本として、会議の準備から運営、終了後のフォローまで
あるべき正しい会議というものを詳しく、わかりやすく解説します。

技術者を対象としたプログラムですので、技術ミーティング特有の課題とその解決法についても習得していただけます。
これまで、会議の合理化や効率化などの施策を試みてはみたものの、ご自身の担当領域とあまりフィットしない、技術部門に適用するのが難しい、とお悩みの方にもおすすめです。

 

【修得知識】

・ 会議の本質を知る  
・ 会議の準備方法
・ 会議の運営方法   
・ 議事録の書き方
・ 会議を実務にフィードバックする方法

 など

 

【主な対象】 

主に研究、開発、技術部門の方で
 ・会議運営を担当する方      
 ・会議を効率的にしたい方
 ・会議を意味のあるものにしたい方
 ・無駄な会議のなくし方を知りたい方
 ・業務改善や働き方改革のご担当者

など

 

【開催日】

  2019年7月2日 10:00~16:30

【会場】

  大阪(日本能率協会 研修室) 

【受講料】

 50000円 (税抜き)

 

【プログラム】

  項目 内容
1日
10:00~16:30

1  会議の実態と課題

(会議の実態と課題)

2  会議の基本

・良い会議とは

・結論の3条件

・会議の種類

・5つの議論の場

・会議の7P

・会話、対話、議論

・決定会議の要点

・解決、創造、共有

・議論が紛糾したら

・基本フローとルール

3  会議の準備

・目的とゴール

・時間配分

・議題のランク付け

・チェック項目

・Agendaの例

・会議資料作り(フロー)

BATNA

4  資料作成

・ピラミッドストラクチャー

・伝えるべきこと

・全体から細部へ

・要点スタート

5  会議の進行

・具体的プロセス

・発言を引き出すためには

・司会の役割

・さまざまなアイデア発想法

・仰望支店と俯瞰視点

・真意を引き出すために

・Muntst&Was

・結論へのプロセス  発言に対する対応

6  会議テクニック(ファシリテーション)

ファシリテーター

・議事進行、コントロール

・6カラーハット

・ZOPA

・コンセンサス

・コンフリクトと解決ストラテジー

7  会議終了後

・アクションプラン

・議事録の項目

・宿題の記録

8  会議のNG

・NG発言

・良い/悪い会議の例

9  技術ミーティング

・技術者の報連相

・Evidence & Story

・情報共有のシステム化

・2つのミーティング

10  まとめ

(まとめ)

11  演習

(演習)

薄利多売モデルの崩壊(社会構造の変化によるマーケットへの影響)

 ビジネスモデルのは様々なものがありますが、近年の中心になってきたものの一つに「薄利多売型モデル」が挙げられます。改めての説明の必要もないでしょうが、品物一つ当たりの利益を少なくし、たくさん売ることで、全体の利益を多くするような商売のやり方を薄利多売型と呼んでいます。しかし、最近ではこのモデルが崩壊して、高付加価値商品へと市場はシフトしようとしています。

 そこで、今回はこのビジネスモデルの変化について書いてみたいと思います。

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セミナー:XPS(ESCA)の基礎と実践応用テクニック(20190626)

下記セミナーを開催します。

 お申込みは、HPのお問い合わせボタンよりお願いします。

 

【タイトル】

XPS(ESCA)の基礎と実践応用テクニック

 

【概要】

 表面、界面はあらゆる技術や製品の基盤となるものであり、現在扱われる材料やプロセス、技術、商品で表面や界面が関与していないものは無いと言っても過言ではない。そのため様々な分析手法が開発されているが、その中の代表がX線光電子分光法(XPS、ESCA)である。装置の発達で測定は比較的容易になってきているとはいえ、それと共に間違った理解や手順で測定、解析を行っているケースが増えている。
 本講では、表面、界面の基礎から、XPSの原理基礎はもちろん、測定、解析の手順、技術的テクニック、コツやノウハウまで応用事例を交えて解説する。

  

【修得知識】

・表面分析の基礎
・表面分析の考え方と活用法
XPSの手法基礎
XPSの測定のコツ、ポイント
XPSの解析のコツ、ポイント

 など

 

【主な対象】 

・研究開発部門、分析部門、製造部門、品質保証部門など技術部門全般
・若手から中堅を中心とした担当者
XPSの教育を行うリーダー、マネージャー

など

 

【開催日】

  2019年6月26日 10:30~16:30

【会場】

  きゅりあん大井町

【受講料】

 48,600円 (税込)

 

【主な内容】

1.表面とは
 1.1 表面・界面の重要性
 1.2 表面(薄膜)とは?
 1.3 XPSで分析する表面の要素
 1.4 XPSが対象とする表面現象

2.表面分析の分類
 2.1 表面分析に用いる主な手法と選び方 
 2.2 表面・微小部の代表的分析手法

3.サンプルの取り扱い
 3.1 表面分析の心構え
 3.2 サンプリング
 3.3 サンプリング(粉末)
 3.4 裏表の表示
 3.5 汚染の例

4.XPSの基本
 4.1 光電子の発生
 4.2 XPSの原理と特徴
 4.3 XPSの検出深さ
 4.4 Binding Energy の規則性
 4.5 XPS装置の基本構造    
 4.6 X線
 4.7 光電子アナライザー
 4.8 ワイドスキャン(サーベイスキャン)
 4.9 ナロースキャン(代表的な元素)
 4.10 バックグラウンド
 4.11 エネルギー損失ピーク
 4.12 シェイクアップサテライト
 4.13 電荷移動サテライト
 4.14 金属ピークの非対称性
 4.15 スピン軌道相互作用

5.測定条件
 5.1 より正確な定量値を得るために
 5.2 積算回数
 5.3 パスエネルギーの影響
 5.4 ピークの重なり

6.チャージアップ対策
 6.1 チャージアップ
 6.2 帯電中和のメカニズム
 6.3 電子-Arイオン同軸照射型帯電中和機構
 6.4 中和銃の設定例
 6.5 チャージアップ補正条件
 6.6 化学状態による違い
 6.7 チャージアップへの工夫

7.解析の基本
 7.1 バックグラウンド処理
 7.2 XPSにおける定量
 7.3 感度係数
 7.4 相対感度係数の例
 7.5 より正確な定量値を得るために
 7.6 スペクトルのピーク分離

8.化学状態解析
 8.1 元素同定
 8.2 化学状態の同定(C1s)
 8.3 C1sケミカルシフト
 8.4 ポリマーの分析例
 8.5 金属の価数評価
 8.6 ケミカルシフトの注意点
 8.7 チタンの化学状態

9.構造解析
 9.1 異なる構造のTi2p
 9.2 バレンスバンドの活用
 9.3 例(アナターゼ&ルチル)
 9.4 異なる構造のバレンスバンド
 9.5 アナターゼ/ルチル比
 9.6 アナターゼ/ルチル混合比
 9.7 XRDとの比較
 9.8 XPSによる混合比解析と光活性
 9.9 XPSによる光活性解析
 9.10 価電子帯スペクトルの活用
 9.11 オージェピークの活用
 9.12 オージェパラメーターの活用

10.深さ方向分析
 10.1  角度変化法 
  10.1.1 XPSにおける分析深さ
  10.1.2 角度変化測定による深さ方向分析
  10.1.3 IMFPの計算
 10.2  イオンエッチング 
  10.2.1 イオン銃の基本構造
  10.2.2 デプスプロファイルのワークフロー
  10.2.3 エッチレートの決定
  10.2.4 試料の回転
  10.2.5 デプスプロファイル測定の設定のポイント
  10.2.6 イオンエッチングダメージ
  10.2.7 酸化膜の深さ方向分析
  10.2.8 イオンエッチングによるクロスコンタミ
 10.3  測定ダメージとその抑制 
  10.3.1 ポリマーへのArイオン照射
  10.3.2 イオンエッチングダメージ
  10.3.3 エッチング条件とダメージ
  10.3.4 クラスターイオン銃
  10.3.5 エッチング条件とスパッタレート
 10.4 HAXPES

11.イメージング 
 11.1 Si基板上のCrパターンのマッピング
 11.2 Atomic% Mapping
 11.3 マッピングとパラレルイメージング
 11.4 イメージング測定の例

12.ハイブリッド分析 
 12.1 ハイブリッド分析
 12.2 XPSによる光触媒の解析
 12.3 XPS&ラマン
 12.4 光活性とXPS、ラマン解析結果

13.その他補足 
 13.1 界面で正体不明のピークシフト
 13.2 再汚染の影響(Si基板)
 13.3 参考文献等
 13.4 ちょっと便利なサイトやソフト

14.解析の実例 
 14.1  XPSによる紫外線照射PIの解析 
 14.2  表面構造変化の解析(XPS) 
 14.3  気相化学修飾法 

15.まとめ 

16.質疑
 

本当のイノベーションとは何か

 皆さんイノベーションという言葉は一度や二度は聞いたことがあると思いますが、どんなイメージを持っているでしょうか。多くの日本語訳は「革新的な」というようなニュアンスになっていると思います。そのため、ほとんどの方はイノベーションというとそれまでに無かったような、全く新しいモノ、文字通り社会に革命を起こすようなそれまでになかったものを思い浮かべるのではないでしょうか。

 しかし、イノベーションとはそんなにものすごいこと、ものすごいモノだけを意味しているのでしょうか。今回は、その辺りについて書いてみたいと思います。

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セミナー:「分析におけるスペクトル解析」実践セミナー(20190624)

下記セミナーを開催します。

 お申込みは、HPのお問い合わせボタンよりお願いします。

 

【タイトル】

基本から応用テクニックまでを1日で学ぶ

「分析におけるスペクトル解析」実践セミナー

 

【概要】

 FTIRやXPSを中心としたいわゆる分光分析は、材料やプロセスの解析・評価、トラブル解決において必要不可欠なものとなっています。
 開発当初は、スペクトルを得るだけでも長い時間と高度な技術を要しましたが、近年の技術進歩で誰でも簡便にスペクトルを取得でき、場合によっては装置導入日に教科書に出ているようなきれいなスペクトルを得られることも少なくありません。

 言うまでもなく、スペクトルは得られれば目的が達成できるわけではなく、解析して初めて必要な情報を得て問題解決、目的達成をすることができるものです。また、その解析に用いることができるスペクトルであるかを判断することも重要です。

 ところが、コンピューターやソフトの進歩もあり、現在では解析の多くの部分が自動化、ブラックボックス化されており、間違った結論が導かれてしまっているケースが少なくありません。

 本セミナーでは、スペクトル解析の基本的な考え方から、前処理、同定や定量から数学的アプローチなどの解析、実際の様々な事例や手法による分析例などを詳細に解説します。

  

【修得知識】

□ スペクトル解析の基礎から応用、実践まで
□ スペクトルの正しい解釈(定性・定量)とそのためのデータ処理
□ 良いスペクトルを得るコツ、ノウハウ
□ 潜在情報を引き出す応用解析法
□ データベースの利用法

 など

 

【主な対象】 

・研究開発部門、研究機関のご担当者、リーダーの方
・企業等の分析部門、大学等の分析センター、公設試験センターの担当者、リーダー、等
・その他、技術部門全般で本テーマにご関心のある方

など

 

【開催日】

  2019年6月24日 10:30~16:30

【会場】

  日本能率協会・研修室

【受講料】

 53,000円(税別)

 

【主な内容】

1.スペクトル解析の基本

・データの信頼性

・分析の基本フロー

・正確なデータを得るために

・AccuracyとPrecision

・信頼度要因を整理する

・横軸、縦軸の意味

・基本ピーク形状

・半値幅の持つ意味

・ピーク変化(位置、半値幅)の意味

・スペクトル解析の分類

・スペクトルから構造・状態へ

・ ピーク? ノイズ?

・動的に全体を見る

2.スペクトルの前処理

・データ前処理

 ・スペクトル前処理の分類

 ・ベースライン補正

 ・スムージング

 ・補間

 ・微分

 ・対数化

 ・平均化

 ・ノーマライズ、規格化(レンジスケール)

 ・自動処理の注意点

 ・最も重要なこと

・解析的前処理(FTIRを例に)

 ・大気成分(CO2、H2O)補正

 ・ATR補正

 ・K-K変換、K-M(Kubelka-Munk)変換

 ・注意点

3.スペクトルの解析(同定・定性)

・同定と定性

・ピーク帰属

・複数ピークの併用

・スペクトルパターン

・ピーク帰属の裏ポイント

・スペクトルデータベース

・代表的検索アルゴリズム

・ヒットスコアの罠

・スペクトルサーチのコツ

・差スペクトル

・混合解析

・オープンライブラリ

4.スペクトルの解析(定量

・ピーク高さと面積

・ベースラインの引き方

・ピーク分離

・ピーク分離における条件設定

・検量線法による定量

定量値に対する影響要因

・限界の定義を理解する

・変動要因の軽減

5.スペクトルの解析(数学的アプローチによる物理意味の導出)

・相関解析

・相関解析の注意点

・多変量解析

・予測と要約

・多変量解析の応用

・本来のスペクトル解析

6.各種測定法の例

6.1 角度変化法

6.2 角度変化法の注意点

6.3 マッピングと多変量解析(PCA等)

6.4 マススペクトル

7.実例

7.1 X線光電子分光法(XPS、ESCA)

7.1.1 ワイドスキャン(サーベイスキャン)

7.1.2 ナロースキャン(代表的な元素)

7.1.3 元素同定

7.1.4 化学状態の同定

7.1.5 定量評価

7.1.6 XPSにおけるベースラインの選択

7.1.7 オージェピークの利用

7.1.8 サテライトピークの利用

7.1.9 価電子帯の利用

7.1.10 角度変化測定による深さ方向分析

7.2 フーリエ変換赤外分光法(FT-IR)

7.2.1 赤外分光法(IR)の原理

7.2.2 FT-IRの長所・短所

7.2.3 測定法

7.2.4 吸光度スペクトルと透過スペクトル

7.2.5 主な吸収帯

7.2.6 周辺環境の影響

7.2.7 赤外分光の構造敏感性

7.2.8 指紋領域の利用

7.2.9 系統分析

7.2.10 帰属の考え方

7.2.11 異常分散によるスペクトルへの影響

7.2.12 ATR適用の注意点と対策

7.2.13 ピーク強度比法

7.2.14 誤差要因

7.2.15 配向図

7.2.16 差スペクトルが上手くいかない?

7.2.17 高度な構造解析

7.3 ポリイミドの表面処理層の深さ方向分析

7.4 ラマン分光法

7.4.1 ラマン散乱

7.4.2 ラマン散乱と赤外吸収

7.4.3 レーザー波長と散乱強度

7.4.4 ラマンスペクトル

7.4.5 ラマンスペクトルの解析

7.4.6 ラマンイメージング

7.5 飛行時間型二次イオン質量分析法(TOF-SIMS)

7.5.1 TOF-SIMSの概要

7.5.2 TOFにおけるマススペクトル解析

8.仮説思考による研究開発と問題解決

 

9.まとめ・質疑